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  • 低温(恒温)搅拌反应浴DHJF-8005C/D

    低温(恒温)搅拌反应浴DHJF-8005C/D

    用途特点:适用于化学、生物、物理检测等行业实验室以及大学、科研院所实验室,用于冷却、加热烧瓶、试管等反应容器。

  • 升降调速玻璃反应釜(GRL)

    升降调速玻璃反应釜(GRL)

    升降型玻璃反应釜主要用于物料合成、蒸馏、浓缩等实验。釜体升降且能旋转120°,釜体结构分为单层、双层及三层三种类型。根据需要可将釜内抽至负压状态,满足实验条件。

  • 超低温循环冷却器LT系列

    超低温循环冷却器LT系列

    用途特点:向外部提供冷源,满足低温反应条件,适用于制药、化工、生物、新材料等行业,应用于反应釜的温度控制、材料测试中的温度控制、工艺过程中温度变化模拟控制。

  • ZT防爆型密闭制冷加热循环装置

    ZT防爆型密闭制冷加热循环装置

    防爆型密闭制冷加热循环装置,向外部提供热源或冷源,适用于制药、化工、生物、新材料等行业,应用于反应釜的温度控制、材料测试中的温度控制、工艺过程中温度变化模拟控制、半导体设备的温度控制、新能源电池包等热测试平台的温度控制、真空室的温度控制等

  • 调速玻璃反应釜GR-20

    调速玻璃反应釜GR-20

    调速玻璃反应釜主要是用于物料合成、蒸馏、浓缩等实验。釜体结构分为单层、双层及三层三种类型。根据需要可将釜内抽至负压状态,满足实验条件。

  • GR-2型玻璃反应釜

    GR-2型玻璃反应釜

    釜体溶积为1L、2L、3L三种规格,桌面式玻璃反应釜主要是用于物料合成、蒸馏、浓缩等实验。釜体结构分为单层、双层及三层三种类型。根据需要可将釜内抽至负压状态,满足实验条件。

  • ZT密闭制冷加热循环装置(-30~200℃)

    ZT密闭制冷加热循环装置(-30~200℃)

    ZT密闭制冷加热循环装置用途特点:向外部提供热源或冷源,适用于制药、化工、生物、新材料等行业,应用于反应釜的温度控制、材料测试中的温度控制、工艺过程中温度变化模拟控制、半导体设备的温度控制、新能源电池包等热测试平台的温度控制、真空室的温度控制等

  • ZTM防爆密闭制冷加热循环装置(-40~200℃)

    ZTM防爆密闭制冷加热循环装置(-40~200℃)

    ZTM防爆密闭制冷加热循环装置用途特点:向外部提供热源或冷源,适用于制药、化工、生物、新材料等行业,应用于反应釜的温度控制、材料测试中的温度控制、工艺过程中温度变化模拟控制、半导体设备的温度控制、新能源电池包热测试平台的温度控制、真空室的温度控制等

  • ZTM防爆密闭制冷加热循环装置(-30~200℃)

    ZTM防爆密闭制冷加热循环装置(-30~200℃)

    ZTM防爆密闭制冷加热循环装置用途特点:向外部提供热源或冷源,适用于制药、化工、生物、新材料等行业,应用于反应釜的温度控制、材料测试中的温度控制、工艺过程中温度变化模拟控制、半导体设备的温度控制、新能源电池包热测试平台的温度控制、真空室的温度控制等

  • R-1020旋转蒸发仪

    R-1020旋转蒸发仪

    适用于生物、医药、化工、食品等领域的中试级实验。与真空泵、循环冷却器等冷却设备组成配套系统。1、优异的密封设计,不涂真空脂,系统升压速率≤2Kpa/h;2、自动切换阀设计,在单收集瓶配置下,可以不间断蒸馏进行导出收集瓶物料;3、PTFE放料阀门。4、玻璃组件采用快速法兰连接,操作方便;5、部分型号浴槽外配置橡胶保护套,减少烫伤的可能。

  • ZTM密闭制冷加热循环装置(-40~200℃)

    ZTM密闭制冷加热循环装置(-40~200℃)

    ZTM密闭制冷加热循环装置用途特点:向外部提供热源或冷源,适用于制药、化工、生物、新材料等行业,应用于反应釜的温度控制、材料测试中的温度控制、工艺过程中温度变化模拟控制、半导体设备的温度控制、新能源电池包热测试平台的温度控制、真空室的温度控制等

  • MP-201ZA隔膜真空泵

    MP-201ZA隔膜真空泵

    MP-201ZA隔膜真空泵为蒸发、蒸馏、结晶、干燥、升华、减压过滤等过程提供负压条件。可替代循环水式真空泵和旋片式真空泵、体积小,重量轻。